CVDSim ( Chemical Vapor Deposition Simulator )

CVD（化学気相成長）シミュレーションモジュール：CVDSim
（ Simulation Module for Chemical Vapor Deposition Processes ）

CVDSim は，代表的な CVD装置メーカーで利用されている CVDプロセスシミュレーションに特化したソフトウェアです．現在，以下の５つの基本モジュールが準備されています．

■ Nitride Edition
　GaN，AlN，AlGaN，InGaN，及び，p-GaN に対応

■ III-V Edition
　AlGaAs，GaAs，InGaAlP，InGaAs，InGaP，及び，InP に対応

■ HVPE Edition
　GaN, AlGaN，AlN に対応

■ SiC Edition
　原料ガスとして，SiH4/C3H8，又は，SiCl4/C3H8 に対応

■ Si Edition
　原料ガスとして，DCS，又は，TCS に対応

概要，及び，CFD-ACE+ 上での計算例については，順次ご紹介致します．

☆

CVDSim には，以下のような特徴があります．

◆ 独自の database
◆ 重要な species に限定した気相・表面反応の考慮
◆ 準熱平衡を仮定したモデル・kinetic なモデル
◆ 寄生成長の考慮
◆ 気相中で生成するパーティクル（ particle ）の考慮
◆ ドーパント（ Mg 等）の考慮
◆ 下地となる基板の考慮

CFD-ACE+ で利用可能な Database Manager に，STR が準備した database を読み込ませることにより，species や反応モデルが利用可能となります．

また，表面反応や気相中で生成する cluster 等は，user subroutine を利用して取り込みます．

2014年以降，STR Japan が営業窓口となっております。弊社では，引き続きサポートをさせて頂いておりますが，技術的なご質問等につきましては，弊社にお問い合わせ下さい。

☆