会社紹介
株式会社アテナシスは，数値解析を利用し，そこに経験と知恵を融合させ，「ものづくり」に携わる方々を積極的に支援します．
社名は，ATHENA（ギリシャ神話に登場する知恵・芸術・工芸・戦略を司る女神：アテナ）と SYStem（システム）に由来しています．梟（フクロウ）は，しばしばアテネと一緒に登場します．また，アテナはローマ神話に登場するミネルヴァに相当し，やはりフクロウがミネルヴァに仕えていました．
半導体製造プロセス（CVD ・PCVD・Etching）で必要となる反応炉・装置を始めとし，表面改質技術に関わる装置の数値解析技術，及び，その解析技術に関わるコンサルティングサービスを提供します．また，プラズマのシミュレーション等で必要な反応モデルに関するデータベースの調査・構築をお手伝い致します．
一般的な CFD に加え，反応性ガスのシミュレーションに力を注いでいます．共同研究については，企業は勿論，大学を含めた研究機関の方からのお問い合わせも歓迎致します．
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| ■ 社名 | 株式会社アテナシス |
| ■ 設立 | 平成20年10月1日 |
| ■ 代表取締役 | 池田 圭 |
| ■ 資本金 | 300万円 |
| ■ 主要取引銀行 | 三菱UFJ銀行 |
| ■ 事業案内 | CAE（ 反応を含む数値解析 ）に関するサポート・コンサルティング |
| ■ 所在地 | 〒251-0037 （平成30年3月18日，移転いました） 神奈川県 藤沢市 鵠沼海岸 3-3-4 Tel : 0466-47-7268 email : inquire at athenasys dot co dot jp ※ at と dot を @ と . に読み替えて下さい。 |
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代表者略歴：
| ■ 平成元年- 平成13年 |
アネルバ株式会社（現在，CANON ANELVA） 研究開発部門：11年，装置事業本部 FPD装置事業推進部：1年 プラズマ源の開発，プラズマ特性の測定 CVD/Etching に関するプロセスシミュレーション，磁場解析，統計解析 使用経験のあるソフトウェア：Fluent，ANSYS，RS/1，等 |
| ■ 平成13年- 平成20年 |
株式会社ウェーブフロント ESI の CFD-ACE+ 及び，STR の CVDSim を利用した反応炉の装置解析を 始めとしたカスタマーサポート，及び，CFD-ACE+を中心とした CAEに関わる コンサルティング・受託解析，等 |
▼ 所属する学会：応用物理学会，化学工学会（休会中），日本結晶成長学会（休会中），電気学会(休会中)
▼ 原子分子データ応用フォーラム（会報：第1号，第2号，第3号，第4号，第5号）
▽ 仕事と直接関係ありませんが，平成20年7月1日，日本将棋連盟より５段免状（アマ）を頂きました．
▽ 寄付活動：ふんばろう東日本支援プロジェクト，広島・九州（豪雨災害），ウクライナ，国境なき医師団，ICAN，等
当社の発表
[49] メタン高周波プラズマのモデリング
第69回応用物理学会春季学術講演会（26a-P03-10）：2022年3月）
池田 圭
アテナシス
[48] コロナウィルスのエアロゾル感染シミュレーション
（特別WEBコラム 「新型コロナウイルス禍に学ぶ応用物理」への寄稿：2020年7月1日）
池田 圭
アテナシス
[47] 誘電体を照射するAC大気圧Heプラズマジェットのモデリング
第67回 応用物理学会春季学術講演会（12p-A302-9）
小林 司，池田 圭
アテナシス
[46] Modeling study on AC atmospheric pressure He plasma jets interacting with a dielectric target
DPS2019 のポスターセッション（†P-69 ）
小林 司，池田 圭
アテナシス
[45] Title: A computational model for plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon nitride
DPS2019 のポスターセッション（†P-29 ）
池田 圭
アテナシス
[44] Numerical simulation of O2 premixed He plasma jets interacting with a grounded target
DPS2018 のポスターセッション（†P-33 ）
小林 司，池田 圭
アテナシス
[43] 2D Combined ICP/CCP numerical modeling for RF plasma source
Gasious Electric Conference, KW3.00005 (2016)
M. MIyashita*1, K. Ikeda*2, S. Ochi*3, T. Yumiyama*3
1) Sumitomo Heavy Industries, Ltd., 2) Athenasys Ltd., 3) Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co, Ltd.
[42] 導入ガスを切り替えるCVDプロセスの非定常ガス流れシミュレーション
化学工学会 第47回秋季大会 <CVD・ドライプロセス －構造・機能制御の反応工学 > O-304
池田 圭
アテナシス
[41] CFD-ACE+ による燃焼の計算例
PUCA 2014 - ESI Users' Forum Japan
池田 圭
アテナシス
[40] 静磁場を考慮したプラズマシミュレーション
2014年度 放電学会シンポジウム @千葉工業大学
池田 圭
アテナシス
[39] 静磁場を考慮したプラズマシミュレーション
平成26年電気学会全国大会（2014年3月）- 放電基礎パラメータと放電応用技術の最前線Ⅱ
池田 圭
アテナシス
[38] Plasma simulation using CFD-ACE+ Suite
8th International Conference on Reactive Plasmas / 31st Symposium on Plasma Processing (ICRP-8/SPP-31)
Tutorial-3 : Medeling and Simulation
Kei Ikeda
Athenasys
[37] 誘電体を考慮した容量結合型プラズマのシミュレーション
CFD-ACE User meeting 2013 Program 講演論文集
池田 圭
アテナシス
[36] 誘導結合型プラズマ（ICP）の非定常解析
PUCA 2012 - ESI Users' Forum Japan 講演論文集
池田 圭
アテナシス
[35] パーティクル生成・寄生成長を考慮した窒化物半導体・SiC成長シミュレーション
化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会主催の講習会（2011年） - 初級講座 プロセス・装置基礎解説とシミュレーションの応用～
池田 圭
アテナシス
[34] 気相中のパーティクル生成及び基板近傍の壁面で生じる副生成反応（寄生成長）を考慮したCVDプロセスシミュレーション
化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会主催のシンポジウム（2009年） - CVD反応シミュレーション -
池田 圭
アテナシス
[33] Application examples for CVD and Plasma simulation using CFD-ACE+
KW tech 2009 conference（11月3-4日：韓国で開催された user conference ）
Kei Ikeda
ATHENASYS
[32] 高周波・赤外集光一体型加熱装置の熱解析
PAM Users' Conference in Asia 2009 (PUCA'09) 講演論文集 p.405
池田 圭*1，西澤 伸一*2
1) アテナシス，2) 産業技術総合研究所
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ウェーブフロント在職中に関わったテーマ
[31] シミュレーションと計測によるプロセスプラズマの解析：N2プラズマとH2プラズマについて
J. Vac. Soc. Jpn., Vol. 51, No. 12, 2008, 807-813
（社）日本半導体製造装置協会・装置技術ロードマップ専門委員会 Modeling & Simulation ワーキンググループ
メンバー：小方 誠司*1，小林 司*2，田中 正明*3，田中 雅人*4，豊田 一行*5，堀 勝*6，渡辺 元之*7
オブザーバ：池田 圭*8，関根 誠*6，高島 成剛*9
1) アルバック，2) キヤノンアネルバ，3) ペガサスソフトウェア，4) 山武，5) 日立国際電気，6) 名古屋大学大学院工学研究科，7) 浜松ホトニクス，8) ウェーブフロント（現：アテナシス），9) 名古屋大学大学院工学研究科（現：名古屋都市産業振興公社プラズマ技術産業応用センター）
//www.jstage.jst.go.jp/browse/jvsj2/51/12/_contents/-char/ja/
[30] Generation and Transportation Mechanisms of Chemically Active Species by Dielectric Barrier Discharge in a Tube for Catheter Sterilization.
Plasma Processes and Polymers,5,(2008), 606-614
Takehiko Sato*1, Osamu Furuya*2, Kei Ikeda*3 and Tatsuyuki Nakatani*4
1) Tohoku Univ., 2) Tohoku Univ.(presently, Toshiba), 3) Wave Front, 4) Toyo Advanced Technologies
[29] 昇華エッチングを考慮したSiCの高温CVDシミュレーション
デンソーテクニカルレビューVol.12 No.2 (2007年12月)
木藤 泰男*1，牧野 英美*1，池田 圭*2，永久保 雅夫*1，恩田正一*1
1) デンソー 基礎研，2) ウェーブフロント
[28] マルチスパイラルコイルを用いた誘導結合型プラズマ源の3次元シミュレーション
PAM Users' Conference in Asia 2007 (PUCA'07) 講演論文集 p.405
池田 圭
ウェ－ブフロント
[27] 細管内誘電体バリア放電の数値解析.
日本機械学会第17回環境工学総合シンポジウム2007講演論文集, (07-12), (2007), 230-231
古屋 修，佐藤 岳彦，池田 圭，中谷 達行*3
1) 東北大，2) ウェーブフロント，3) トーヨーエイテック
[26] 細管内誘電体バリア放電のラジカル生成輸送解析と滅菌特性.
第31回静電気学会全国大会講演論文集, (2007), 21-22
佐藤 岳彦*1，古屋 修*1，池田 圭*2，中谷 達行*3
1) 東北大，2) ウェーブフロント，3) トーヨーエイテック
[25] Dielectric Barrier Discharge in Tube for Catheter Sterilization and its Mechanism for Radical Generation and Transportation.
Abstracts of the 1st International Conference on Plasma Medicine (ICPM-1), Corpus Christi, Texas,(2007), 48-50
Takehiko Sato*1, Osamu Furuya*1, Kei Ikeda*2 and Tatsuyuki Nakatani*3
1) Tohoku Univ., 2) Wave Front, 3) Toyo Advanced Technologies
[24] マルチスパイラルコイルを用いた誘導結合型プラズマの 3 次元シミュレーション
真空, 50 (2007) 424
池田 圭*1，奥村 智洋*2，Vladimir KOLOBOV*3
1) ウェーブフロント，2) 松下電器産業 生産革新本部，3) CFDRC
//www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj/50/6/50_424/_article/-char/ja
[23] SiC HTCVD simulation modified by sublimation etching
Materials science forum, 2006, vol. 527-29 (1), pp. 107-110
KITOU Yasuo*1，MAKINO Emi*1，IKEDA Kei*2，NAGAKUBO Masao*1，ONDA Shoichi*1
1) DENSO，2) Wave Front
[22] CFD-ACE+によるプラズマ解析
計算力学講演会講演論文集 Vol.2005, No.18(20051117) pp. 461-462
池田 圭
ウェーブフロント
[21] RFプラズマによる半導体製造装置排ガスの分解（CF4分解の実験と数値シミュレーション）
日本機械学会関東支部創立10周年記念 第10期総会講演会（3月，東京）講演論文集，040-1, 177-178.
田中 慎吾*1，黒木 智之*2，大久保 雅章*2，山本 俊昭*2，池田 圭*3
1) 阪府大院，2) 阪府大，3) ウェーブフロント
[20] 昇華を考慮したSiCの高温CVDシミュレーション (HTCVD Simulation of SiC modified by sublimation etching)
SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第13回講演会 ポスターセッション P-14
牧野 英美*1，木藤 泰男*1，池田 圭*2，永久保 雅夫*1，恩田 正一*1
1) デンソー 基礎研，2) ウェーブフロント
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その他：
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会主催 第18回プラズマエレクトロニクス講習会 ショートプレゼンテーションにて，CFD-ACE+ を用いた Plasma Simulation の紹介をさせて頂きました．
SEAJ（社団法人 日本半導体製造装置協会）より刊行された2007年度半導体装置技術ロードマップ報告書のお手伝いをさせて頂きました．また，活動内容が論文（上記[31]）でも紹介されています．
//www.seaj.or.jp/activity/roadmap/index.html
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アネルバ在職中に関わったテーマ（論文，その他）
[19] CVD法による銅薄膜の成膜とガスの流れの関係
電子情報通信学会論文誌 Vol.J82-C-II, No.8(19990825) pp. 439-445
小林 明子，関口 敦，池田 圭，岡田 修，小出 知昭
アネルバ
[18] Target Erosion Simulation in Magnetron Sputtering and Etch Rate Simulation in Al Etching for Industrial Equipment
Reports of the Institute of Fluid Science, Tohoku University, Vol.10(19980300) pp. 67-76
Kobayashi Tsukasa, Ikeda Kei
ANELVA
[17] Numerical analysis of the pressure dependence of the etch rate in an Al etching reactor equipped with a helicon source
J. Vac. Sci. Technol. B Volume 16, Issue 1, pp. 159-163 (January 1998)
Kei Ikeda*1, Yoshio Oshita*2
1) ANELVA, 2) NEC
[16] ギャップに挑むシミュレーション技術：Alエッチング装置のプロセスシミュレーション 反応阻害物多層被覆モデルへの拡張
月刊Semiconductor World 1997.4 pp. 79-82
池田 圭*1，小林 司*1，塚田 勉*1，大下 祥雄*2，細井 信基*2
1) アネルバ，2) NEC マイクロエレクトロニクス研
[15] Alエッチング装置におけるエッチレートの圧力依存性の検討
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.44, No.2, p. 707
池田 圭*1，小林 司*1，塚田 勉*1，大下 祥雄*2，細井 信基*2
1) アネルバ，2) NEC マイクロエレクトロニクス研
[14] CVDにおけるガス導入部の構造とCu膜の成膜特性
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.44, No.2, p. 801
小林 明子，関口 敦，池田 圭，岡田 修，高 尚台，小出 知昭
アネルバ
[13] Cu(hfac)(tmvs)を原料としたCVD法によるCu膜の成膜速度と埋め込み
アネルバ技報 Vol.2（1996.9.30発行）
小林 明子，関口 敦，池田 圭，岡田 修
アネルバ
//www.canon-anelva.co.jp/news/products/ag02.html
[12] "Large area deposition of ITO films by cluster type sputtering system"
Keiji Ishibashi, Kazufumi Watabe, Naokichi Hosokawa
Thin Solid Films 281-282 (1996), pp. 198-201.
ANLEVA （共著ではありませんが，RS/1を用いた統計解析を担当しました）
[11] M=0ヘリコン波プラズマにおけるPtエッチング特性
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.43, No.2, p. 629
真下 公子，池田 圭，中川 行人，野上 裕，塚田 勉
アネルバ
[10] Cu(hfac)(tmvs)を用いたCVD法によるCu膜の成膜速度特性
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.43, No.2, p. 747
小林 明子，関口 敦，池田 圭，岡田 修，細川 直吉
アネルバ
[9] Al Etching装置におけるプロセスシミュレーション
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.56, No.2 p. 671
池田 圭*1，小林 司*1，塚田 勉*1，大下 祥雄*2
1) 日電アネルバ，2) NEC
[8] ECRプラズマ源の特性評価とドライエッチングへの応用
電気学会プラズマ研究会資料 Vol.EP-93, No.65-69, p. 29-38
中川 行人, 池田 圭, 高木 憲一, 真下 公子, 塚田 勉
日電アネルバ
[7] ECR装置のプラズマ特性評価
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.53, No.1 p. 15
池田 圭，高木 憲一，中川 行人，塚田 勉
日電アネルバ
[6] プローブによるECRエッチング装置のプラズマ評価
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.39, No.Pt 1, p. 36
池田 圭，中川 行人，塚田 勉
日電アネルバ
[5] ECRプラズマの空間電位測定
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.52, No.1, p. 30
池田 圭，中川 行人，塚田 勉
日電アネルバ
[4] Ion Current Density and Ion Energy Distributions at the Electron Cyclotron Resonance Position in the Electron Cyclotron Resonance Plasma
Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes, Vol.30, No.2(19910215) pp. 423-427
SAMUKAWA Seiji*1，NAKAGAWA Yukito*2，IKEDA Kei*2
1) NEC，2) ANELVA
[3] Ion Energy Distributions at the Electron Cyclotron Resonance Position in Electron Cyclotron Resonance Plasma
Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) pp. L2319-L2321
Seiji Samukawa*1, Yukito Nakagawa*2, Kei Ikeda*2
1) NEC，2) ANELVA
[2] ECRポジションエッチングにおけるイオンエネルギー分布
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.51, No.2, p. 467
寒川 誠二*1，中川 行人*2，池田 圭*2
1) 日本電気，2) 日電アネルバ
[1] ECRプラズマ装置のイオンエネルギー分析
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.51, No.1, p. 2
中川 行人*1，池田 圭*1，寒川 誠二*2
1) 日電アネルバ，2) 日本電気
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