会社紹介

株式会社アテナシスは,数値解析を利用し,そこに経験と知恵を融合させ,「ものづくり」に携わる方々を積極的に支援します.
社名は,ATHENA(ギリシャ神話に登場する知恵・芸術・工芸・戦略を司る女神:アテナ)と SYStem(システム)に由来しています.梟(フクロウ)は,しばしばアテネと一緒に登場します.また,アテナはローマ神話に登場するミネルヴァに相当し,やはりフクロウがミネルヴァに仕えていました.

半導体製造プロセス(CVD ・PCVD・Etching)で必要となる反応炉・装置を始めとし,表面改質技術に関わる装置の数値解析技術,及び,その解析技術に関わるコンサルティングサービスを提供します.また,プラズマのシミュレーション等で必要な反応モデルに関するデータベースの調査・構築をお手伝い致します.

一般的な CFD に加え,反応性ガスのシミュレーションに力を注いでいます.共同研究については,企業は勿論,大学を含めた研究機関の方からのお問い合わせも歓迎致します.

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■ 社名 株式会社アテナシス
■ 設立 平成20年10月1日
■ 代表取締役 池田 圭
■ 資本金 300万円
■ 社員数 2名(平成29年7月1日現在)
■ 主要取引銀行  三菱東京UFJ銀行
■ 事業案内 CAE( 反応を含む数値解析 )に関するサポート・コンサルティング
■ 所在地 〒135-0033 (平成28年4月16日,移転いました)
東京都江東区深川 2-30-4 302
Tel : 03-6240-3416 / Fax : 03-6240-3417

代表者略歴:

■ 平成元年-
     平成13年
アネルバ株式会社(現在,CANON ANELVA)
研究開発部門:11年,装置事業本部 FPD装置事業推進部:1年
プラズマ源の開発,プラズマ特性の測定
CVD/Etching に関するプロセスシミュレーション,磁場解析,統計解析
使用経験のあるソフトウェア:Fluent,ANSYS,RS/1,等
■ 平成13年-
     平成20年
株式会社ウェーブフロント
ESI の CFD-ACE+ 及び,STR の CVDSim を利用した反応炉の装置解析を
始めとしたカスタマーサポート,及び,CFD-ACE+を中心とした CAEに関わる
コンサルティング・受託解析,等

 ▼ 所属する学会:応用物理学会化学工学会,日本結晶成長学会(休会中),電気学会

 ▼ 原子分子データ応用フォーラムに参加させて頂いております(会報:第1号第2号第3号第4号第5号

 ▽ 仕事と直接関係ありませんが,平成20年7月1日,日本将棋連盟より5段免状(アマ)を頂きました.

 ▼ 弊社の web は,Norton Safe Web [ 外部サイト ]により安全が確認されています.

 ▽ 寄付活動:ふんばろう東日本支援プロジェクト,広島市8・20豪雨災害支援,平成29年7月九州北部豪雨災害支援

 ▼ SENQ 霞ヶ関のメンバーに加えて頂いています.


当社の発表

 

[43] 2D Combined ICP/CCP numerical modeling for RF plasma source
Gasious Electric Conference, KW3.00005 (2016)
M. MIyashita*1, K. Ikeda*2, S. Ochi*3, T. Yumiyama*3
1) Sumitomo Heavy Industries, Ltd., 2) Athenasys Ltd., 3) Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co, Ltd.

[42] 導入ガスを切り替えるCVDプロセスの非定常ガス流れシミュレーション
化学工学会 第47回秋季大会 <CVD・ドライプロセス −構造・機能制御の反応工学 > O-304
池田 圭
アテナシス

[41] CFD-ACE+ による燃焼の計算例
PUCA 2014 - ESI Users' Forum Japan
池田 圭
アテナシス

[40] 静磁場を考慮したプラズマシミュレーション
2014年度 放電学会シンポジウム @千葉工業大学
池田 圭
アテナシス

[39] 静磁場を考慮したプラズマシミュレーション
平成26年電気学会全国大会(2014年3月)- 放電基礎パラメータと放電応用技術の最前線U
池田 圭
アテナシス

[38] Plasma simulation using CFD-ACE+ Suite
8th International Conference on Reactive Plasmas / 31st Symposium on Plasma Processing (ICRP-8/SPP-31)
Tutorial-3 : Medeling and Simulation
Kei Ikeda
Athenasys

[37] 誘電体を考慮した容量結合型プラズマのシミュレーション
CFD-ACE User meeting 2013 Program 講演論文集
池田 圭
アテナシス

[36] 誘導結合型プラズマ(ICP)の非定常解析
PUCA 2012 - ESI Users' Forum Japan 講演論文集
池田 圭
アテナシス

[35] パーティクル生成・寄生成長を考慮した窒化物半導体・SiC成長シミュレーション
化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会主催の講習会(2011年) - 初級講座 プロセス・装置基礎解説とシミュレーションの応用〜
池田 圭
アテナシス

[34] 気相中のパーティクル生成及び基板近傍の壁面で生じる副生成反応(寄生成長)を考慮したCVDプロセスシミュレーション
化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会主催のシンポジウム(2009年) - CVD反応シミュレーション -
池田 圭
アテナシス

[33] Application examples for CVD and Plasma simulation using CFD-ACE+
KW tech 2009 conference(11月3-4日:韓国で開催された user conference )
Kei Ikeda
ATHENASYS

[32] 高周波・赤外集光一体型加熱装置の熱解析
PAM Users' Conference in Asia 2009 (PUCA'09) 講演論文集 p.405
池田 圭*1,西澤 伸一*2
1) アテナシス,2) 産業技術総合研究所

ウェーブフロント在職中に関わったテーマ

[31] シミュレーションと計測によるプロセスプラズマの解析:N2プラズマとH2プラズマについて
J. Vac. Soc. Jpn., Vol. 51, No. 12, 2008, 807-813
(社)日本半導体製造装置協会・装置技術ロードマップ専門委員会 Modeling & Simulation ワーキンググループ
メンバー:小方 誠司*1,小林 司*2,田中 正明*3,田中 雅人*4,豊田 一行*5,堀 勝*6,渡辺 元之*7
オブザーバ:池田 圭*8,関根 誠*6,高島 成剛*9
1) アルバック,2) キヤノンアネルバ,3) ペガサスソフトウェア,4) 山武,5) 日立国際電気,6) 名古屋大学大学院工学研究科,7) 浜松ホトニクス,8) ウェーブフロント(現:アテナシス),9) 名古屋大学大学院工学研究科(現:名古屋都市産業振興公社プラズマ技術産業応用センター)
http://www.jstage.jst.go.jp/browse/jvsj2/51/12/_contents/-char/ja/

[30] Generation and Transportation Mechanisms of Chemically Active Species by Dielectric Barrier Discharge in a Tube for Catheter Sterilization.
Plasma Processes and Polymers,5,(2008), 606-614
Takehiko Sato*1, Osamu Furuya*2, Kei Ikeda*3 and Tatsuyuki Nakatani*4
1) Tohoku Univ., 2) Tohoku Univ.(presently, Toshiba), 3) Wave Front, 4) Toyo Advanced Technologies

[29] 昇華エッチングを考慮したSiCの高温CVDシミュレーション
デンソーテクニカルレビューVol.12 No.2 (2007年12月)
木藤 泰男*1,牧野 英美*1,池田 圭*2,永久保 雅夫*1,恩田正一*1
1) デンソー 基礎研,2) ウェーブフロント

[28] マルチスパイラルコイルを用いた誘導結合型プラズマ源の3次元シミュレーション
PAM Users' Conference in Asia 2007 (PUCA'07) 講演論文集 p.405
池田 圭
ウェ−ブフロント

[27] 細管内誘電体バリア放電の数値解析.
日本機械学会第17回環境工学総合シンポジウム2007講演論文集, (07-12), (2007), 230-231
古屋 修,佐藤 岳彦,池田 圭,中谷 達行*3
1) 東北大,2) ウェーブフロント,3) トーヨーエイテック

[26] 細管内誘電体バリア放電のラジカル生成輸送解析と滅菌特性.
第31回静電気学会全国大会講演論文集, (2007), 21-22
佐藤 岳彦*1,古屋 修*1,池田 圭*2,中谷 達行*3
1) 東北大,2) ウェーブフロント,3) トーヨーエイテック

[25] Dielectric Barrier Discharge in Tube for Catheter Sterilization and its Mechanism for Radical Generation and Transportation.
Abstracts of the 1st International Conference on Plasma Medicine (ICPM-1), Corpus Christi, Texas,(2007), 48-50
Takehiko Sato*1, Osamu Furuya*1, Kei Ikeda*2 and Tatsuyuki Nakatani*3
1) Tohoku Univ., 2) Wave Front, 3) Toyo Advanced Technologies

[24] マルチスパイラルコイルを用いた誘導結合型プラズマの 3 次元シミュレーション
真空, 50 (2007) 424
池田 圭*1,奥村 智洋*2,Vladimir KOLOBOV*3
1) ウェーブフロント,2) 松下電器産業 生産革新本部,3) CFDRC
http://www.jstage.jst.go.jp/article/jvsj/50/6/50_424/_article/-char/ja

[23] SiC HTCVD simulation modified by sublimation etching
Materials science forum, 2006, vol. 527-29 (1), pp. 107-110
KITOU Yasuo*1,MAKINO Emi*1,IKEDA Kei*2,NAGAKUBO Masao*1,ONDA Shoichi*1
1) DENSO,2) Wave Front

[22] CFD-ACE+によるプラズマ解析
計算力学講演会講演論文集 Vol.2005, No.18(20051117) pp. 461-462
池田 圭
ウェーブフロント

[21] RFプラズマによる半導体製造装置排ガスの分解(CF4分解の実験と数値シミュレーション)
日本機械学会関東支部創立10周年記念 第10期総会講演会(3月,東京)講演論文集,040-1, 177-178.
田中 慎吾*1,黒木 智之*2,大久保 雅章*2,山本 俊昭*2,池田 圭*3
1) 阪府大院,2) 阪府大,3) ウェーブフロント

[20] 昇華を考慮したSiCの高温CVDシミュレーション (HTCVD Simulation of SiC modified by sublimation etching)
SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第13回講演会 ポスターセッション P-14
牧野 英美*1,木藤 泰男*1,池田 圭*2,永久保 雅夫*1,恩田 正一*1
1) デンソー 基礎研,2) ウェーブフロント

その他:

応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会主催 第18回プラズマエレクトロニクス講習会 ショートプレゼンテーションにて,CFD-ACE+ を用いた Plasma Simulation の紹介をさせて頂きました.

SEAJ(社団法人 日本半導体製造装置協会)より刊行された2007年度半導体装置技術ロードマップ報告書のお手伝いをさせて頂きました.また,活動内容が論文(上記[31])でも紹介されています.
http://www.seaj.or.jp/activity/roadmap/index.html

アネルバ在職中に関わったテーマ(論文,その他)

[19] CVD法による銅薄膜の成膜とガスの流れの関係
電子情報通信学会論文誌 Vol.J82-C-II, No.8(19990825) pp. 439-445
小林 明子,関口 敦,池田 圭,岡田 修,小出 知昭
アネルバ

[18] Target Erosion Simulation in Magnetron Sputtering and Etch Rate Simulation in Al Etching for Industrial Equipment
Reports of the Institute of Fluid Science, Tohoku University, Vol.10(19980300) pp. 67-76
Kobayashi Tsukasa, Ikeda Kei
ANELVA

[17] Numerical analysis of the pressure dependence of the etch rate in an Al etching reactor equipped with a helicon source
J. Vac. Sci. Technol. B Volume 16, Issue 1, pp. 159-163 (January 1998)
Kei Ikeda*1, Yoshio Oshita*2
1) ANELVA, 2) NEC

[16] ギャップに挑むシミュレーション技術:Alエッチング装置のプロセスシミュレーション 反応阻害物多層被覆モデルへの拡張
月刊Semiconductor World 1997.4 pp. 79-82
池田 圭*1,小林 司*1,塚田 勉*1,大下 祥雄*2,細井 信基*2
1) アネルバ,2) NEC マイクロエレクトロニクス研

[15] Alエッチング装置におけるエッチレートの圧力依存性の検討
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.44, No.2, p. 707
池田 圭*1,小林 司*1,塚田 勉*1,大下 祥雄*2,細井 信基*2
1) アネルバ,2) NEC マイクロエレクトロニクス研

[14] CVDにおけるガス導入部の構造とCu膜の成膜特性
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.44, No.2, p. 801
小林 明子,関口 敦,池田 圭,岡田 修,高 尚台,小出 知昭
アネルバ

[13] Cu(hfac)(tmvs)を原料としたCVD法によるCu膜の成膜速度と埋め込み
アネルバ技報 Vol.2(1996.9.30発行)
小林 明子,関口 敦,池田 圭,岡田 修
アネルバ
http://www.canon-anelva.co.jp/news/products/ag02.html

[12] "Large area deposition of ITO films by cluster type sputtering system"
Keiji Ishibashi, Kazufumi Watabe, Naokichi Hosokawa
Thin Solid Films 281-282 (1996), pp. 198-201.
ANLEVA (共著ではありませんが,RS/1を用いた統計解析を担当しました)

[11] M=0ヘリコン波プラズマにおけるPtエッチング特性
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.43, No.2, p. 629
真下 公子,池田 圭,中川 行人,野上 裕,塚田 勉
アネルバ

[10] Cu(hfac)(tmvs)を用いたCVD法によるCu膜の成膜速度特性
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.43, No.2, p. 747
小林 明子,関口 敦,池田 圭,岡田 修,細川 直吉
アネルバ

[9] Al Etching装置におけるプロセスシミュレーション
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.56, No.2 p. 671
池田 圭*1,小林 司*1,塚田 勉*1,大下 祥雄*2
1) 日電アネルバ,2) NEC

[8] ECRプラズマ源の特性評価とドライエッチングへの応用
電気学会プラズマ研究会資料 Vol.EP-93, No.65-69, p. 29-38
中川 行人, 池田 圭, 高木 憲一, 真下 公子, 塚田 勉
日電アネルバ

[7] ECR装置のプラズマ特性評価
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.53, No.1 p. 15
池田 圭,高木 憲一,中川 行人,塚田 勉
日電アネルバ

[6] プローブによるECRエッチング装置のプラズマ評価
応用物理学関係連合講演会講演予稿集 Vol.39, No.Pt 1, p. 36
池田 圭,中川 行人,塚田 勉
日電アネルバ

[5] ECRプラズマの空間電位測定
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.52, No.1, p. 30
池田 圭,中川 行人,塚田 勉
日電アネルバ

[4] Ion Current Density and Ion Energy Distributions at the Electron Cyclotron Resonance Position in the Electron Cyclotron Resonance Plasma
Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes, Vol.30, No.2(19910215) pp. 423-427
SAMUKAWA Seiji*1,NAKAGAWA Yukito*2,IKEDA Kei*2
1) NEC,2) ANELVA

[3] Ion Energy Distributions at the Electron Cyclotron Resonance Position in Electron Cyclotron Resonance Plasma
Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) pp. L2319-L2321
Seiji Samukawa*1, Yukito Nakagawa*2, Kei Ikeda*2
1) NEC,2) ANELVA

[2] ECRポジションエッチングにおけるイオンエネルギー分布
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.51, No.2, p. 467
寒川 誠二*1,中川 行人*2,池田 圭*2
1) 日本電気,2) 日電アネルバ

[1] ECRプラズマ装置のイオンエネルギー分析
応用物理学会学術講演会講演予稿集 Vol.51, No.1, p. 2
中川 行人*1,池田 圭*1,寒川 誠二*2
1) 日電アネルバ,2) 日本電気


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