論文から学ぶ

< Update : Feb. 3 2009 >

Internet も普及し,数えきれないほどの論文が手に入る時代になった一方で,数多くの論文から有用な論文だけを拾ってくることも容易ではなくなりつつあります.ここでは,反応性ガスを含んだ数値計算をお仕事にする方にとって,少なからず有用ではないかと思われる論文を取り上げ,参考になりそうな点を簡単にご紹介したいと思います(あくまで個人的な観点からご紹介する関係で,論文の著者の方々とは視点や重きも同じというわけではありませんが,予めご了承下さい).

Investigation of the temperature profile in a hot-wall SiC chemical vapor deposition reactor

 SiC CVD装置の温度分布を最適化するために,2次元軸対称と見なせる実験装置との比較を行い,更に色々なパラメータに対する依存性を調べています.更に,最適化を行った後の,3次元モデルの結果についても議論されています.

Decrease in Deposition Rate and Improvement of Step Coverage by CF4 Addition to Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films

 プラズマCVDプロセスのモデル化に関して述べたものの一つですが,プラズマの話はメインではありません.気相や表面の反応をモデル化し,ステップカバレッジの検討結果と合わせ,表面付着率や成膜速度の増減,CF4の役割等について議論しています.

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